thesis

Développement de nouvelles architectures mémoires non-volatiles embarquées pour les plateformes technologiques avancées 40nm et 28nm

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Dec. 19, 2019

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Abstract EN:

Advanced applications based on microcontrollers cover multiple domains. The increase of the field of microcontrollers application is accompanied by a growth of the power consumption. This is a limit of the autonomy of nomadic systems. The technological advance towards ultra-low-consumption CMOS platforms is a major challenge to the requirements of mobile markets and other emerging applications with embedded non-volatile memories. These memories are constantly evolving, particularly by the size shrinking to advanced technological nodes such as 40nm and 28nm. In this thesis, we will present an innovative non-volatile memory called eSTM (embedded Select Trench Memory). This cell possesses a memory transistor and a vertical select transistor. The select transistor is essential to the optimization of the cell consumption. This memory constitutes a 2T architecture with a reduction of area. The objective of this thesis is to study this cell developed on a 40nm technological platform. We will identify the various problems related to miniaturization towards the 28nm technological node. Through the modelling, the electrical characterization and the theoretical calculations, we will see that it is possible to find solutions as the adaptation of the various implants and the dimensions of the memory transistor. This optimization of the eSTM cell will also be the subject of this thesis work.

Abstract FR:

Les applications avancées à base de microcontrôleurs couvrent de multiples domaines. L’accroissement du champ d’application des microcontrôleurs s’accompagne d’une augmentation de la puissance consommée qui limite l’autonomie des systèmes nomades. L’avancée technologique vers des plateformes CMOS à ultra basse consommation est un défi majeur pour répondre aux exigences des marchés nomades et autres applications émergentes avec mémoires non volatiles embarquées. Ces mémoires sont en constante évolution, notamment par la diminution de leur dimension vers des nœuds technologiques avancés comme le 40nm et le 28nm. Dans cette thèse, nous présenterons une mémoire non volatile innovante appelée eSTM (embedded Select Trench Memory). Cette cellule possède un transistor mémoire et un transistor de sélection vertical. Ce dernier est un atout essentiel pour l’optimisation de la consommation de la cellule. Son architecture permet d’obtenir une mémoire du type 2T en minimisant la surface occupée. L’objectif de cette thèse est d’étudier cette cellule développée sur une plateforme technologique 40nm et d’identifier les différentes problématiques liées à la miniaturisation vers le nœud technologique 28nm. A travers la modélisation, la caractérisation électrique et les calculs théoriques, nous verrons qu’il est possible de trouver des solutions d’intégration notamment avec l’adaptation des divers implants et des dimensionnels du transistor mémoire. La réduction des paramètres dimensionnels peut engendrer de nouvelles architectures, comme la cellule à recouvrement. Cette optimisation de la cellule eSTM fera également l’objet de ces travaux de thèse.