Abstract FR:

Apres un rappel sur la microlithographie par faisceau electronique, on s'attarde sur les problemes lies a la retrodiffusion des electrons sur la resine lors du procede. Ensuite une description du logiciel de simulation numerique, elabore pour permettre l'etude de la retrodiffusion dans un systeme multicouche est donnee. On donne les resultats theorique pour plusieurs systemes multicouches que l'on compare a ceux experimentaux