thesis
Caractérisation d'un plasma multipolaire micro-onde de SF6 dilué : corrélation entre flux d'espèces incidentes et cinétiques de gravure du silicium
Institution:
Université Joseph Fourier (Grenoble)Disciplines:
Directors:
Abstract EN:
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Abstract FR:
Le but de cette etude a ete de correler vitesses et profils de gravure du silicum en plasma de sf::(6) dilue aux caracteristiques electriques du plasma a la densite des especes reactives et a l'energie des ions frappant le substrat. Les resultats montrent que les parametres qui conditionnent les caracteristiques du plasma ne sont pas des parametres pertinents vis a vis du processus de gravure et de sa qualite; seul le rapport du flux d'ions au flux de fluor est representatif de l'effet du plasma sur le rendement de gravure et sur le caractere anisotrope ou non de celle-ci