Abstract FR:

Le siliciure ysi 1,7 en phase hexagonale s'epitaxie sur un support si(iii) avec un accord de maille quasi parfait. La couche resultante (100-200 a) contient des grains de 50 a 100 a. Une forte anisotropie de structure de bandes est revelee par photoemission. Les lacunes si s'ordonnent en trois dimensions. Mesures electriques: comportement de type semi-metallique et faible hauteur de barriere de schottky pour le contact ysi 1,7/si dope n. Si peut se reepitaxier sur une couche de siliciure d'y elle-meme epitaxiee sur un support si(iii). Un echantillon est obtenu, avec toutefois des defauts d'empilement dans la couche si. La fabrication de couches multiples de cette nature est envisageable