Abstract FR:

Le procede de depot chimique a partir d'une phase vapeur (cvd pour chemical vapor deposition) presente une grande importance dans de nombreux secteurs industriels. Une de ses applications les plus recentes et prometteuse concerne le traitement de poudres en couche fluidisee, susceptible de creer des revetements protecteurs, ou bien de deposer des amas de matiere active a la surface de particules microporeusesconstituant ainsi des catalyseurs. Pour contribuer au developpement de cette technique, ce travail presente dans une premiere partie des experiences de depot de silicium sur des poudres compactes, a partir de silane. Une analyse des principaux incovenients du procede, tels que l'apparition de perturbations thermiques, la prise en masse de la couche et la production de fines indesirables a ete realisee. Les resultats de l'experience ont ete confrontes avec la simulation. Le bon accord obtenu entre les experiences et la simulation confirme les explications avancees. Dans une deuxieme partie, une etude hydrodynamique des couches fluidises sous vide en fonction de la pression et de la temperature a ete realisee qui permet d'affiner la comprehension des phenomenes se produisant lors des depots. Enfin, dans une troisieme partie sont presentees des experiences sur des particules poreuses a partir de silane et de disilane a pression atmospherique et sous vide. Les caracteristiques des pores avant et apres le depot ont ete determines par la methode d'adsorption bet et de desorption d'azote liquide. Les resultats montrent que les reactifs se deposent sur toute la surface des pores, que ce soit a pression atmospherique ou sous vide, a partir de silane ou de disilane, pour les conditions testees.