thesis

Propriétés physicochimiques d'oxynitrures de silicium préparés à partir de 3 gaz, à basse température, par PECVD : étude de la dilution à l'hélium

Defense date:

Jan. 1, 1989

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Institution:

Université Joseph Fourier (Grenoble)

Disciplines:

Electrical engineering

Authors:

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Abstract EN:

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Abstract FR:

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