Abstract FR:

Les problemes majeurs de la generation automatique du dessin des masques des circuits integres sont la dependance vis-a-vis des regles de dessin et le dimensionnement correct des transistors. Les methodes traditionnelles, telles que l'utilisation de cellules pre-caracterisees, manquent de flexibilite, car les portes des bibliotheques (en nombre limite) sont dessinees et dimensionnees pour une technologie donnee. Les methodes de synthese automatique du dessin des masques ont pour but de surmonter ces problemes. L'independance vis-a-vis des regles de dessin est obtenue en utilisant la technique de description symbolique, et les dimensions des transistors sont definies par le concepteur ou par un outil de dimensionnement. Nous proposons une methode et un prototype logiciel pour la synthese automatique des masques, en utilisant le style linear-matrix multi-bandes. La description d'entree du generateur est un fichier au niveau transistor, ce qui permet d'avoir un nombre tres eleve de cellules, en particulier les portes complexes, et ainsi avoir une meilleure optimisation lors de la phase d'assignation technologique. Les macro-cellules generees doivent etre assemblees afin de realiser un circuit complet. Deux contraintes supplementaires sont ainsi imposees au generateur: malleabilite de la forme et position des broches d'entrees/sorties sur la peripherie de la macro-cellule. Les macro-cellules sont assemblees en utilisant un environnement de conception industriel. Les contributions de ce memoire de doctorat sont d'une part le developpement d'un generateur de macro-cellules flexible ayant les caracteristiques d'independance aux regles de dessin et d'integration dans un environnement de macro-cellules, et d'autre part l'etude detaillee des parametres qui determinent la surface occupee, les performances electriques et la puissance dissipee des macro-cellules generees automatiquement