Abstract FR:

Ce travail consiste à étudier la passivation du phosphure d'indium (semi-conducteur III-V) dans un plasma multipolaire d'oxygène en adoptant deux types d'excitation: 1) excitation avec une cathode chaude; 2) excitation avec micro-onde (RCEL). L'optimisation du procédé a été basée essentiellement sur le diagnostic du plasma réalisé par deux méthodes: 1) diagnostic par sonde électrostatique; 2) étude de la propagation d'une onde acoustique ionique dans le plasma. Une caractérisation électrique des structures mis élaborées permet de tester les qualités de l'oxyde et de déterminer les paramètres physiques caractérisant l'isolant et son interface avec le semi-conducteur. Une caractérisation physico-chimique identifie la composition chimique de l'isolant