Abstract FR:

Obtention de rubans autosupportes ou supportes par differents substrats par projection plasma a partir de poudre de silicium. Optimisation du procede. Mesure des caracteristiques des rubans obtenus (porosite, densite, resistivite, mobilite de hall) avant et apres recuit, et apres recristallisation par bombardement electronique. Evolution des caracteristiques electriques avec le dopage. Mesure des proprietes photoelectroniques