Abstract FR:

L'evolution de la microelectronique vers une miniaturisation de plus en plus poussee, a amene les metrologistes a developper de nouvelles methodes de caracterisation en temps reel, des motifs tridimensionnels composant les circuits integres. Parmi les moyens d'analyse possibles, la microscopie optique haute resolution est une solution interessante car simple et rapide a mettre en uvre. Apres une premiere partie faisant le point sur les differentes techniques actuellement utilisees, ce memoire decrit plusieurs procedes optiques originaux de mesure de largeurs de traits sur circuit integre. Tous ces procedes ont en commun l'utilisation d'une connaissance partielle a priori de l'objet et de ses parametres. Une des solutions retenue consiste a remonter, a partir de modeles physiques ou empiriques, a la connaissance de la largeur du trait, par ajustement iteratif de donnees simulees aux donnees experimentales. Une autre methode a caractere statistique, est basee sur la classification automatique d'images de traits de largeur inconnue dans un espace d'apprentissage prealablement etabli au moyen de la transformation de karhunen-loeve