Abstract FR:

De part les possibilites qu'offre l'ingenierie moleculaire, les polymeres peuvent concourir a l'essor de l'optoelectronique. En particulier, les couches minces de polymere peuvent etre utilisees comme resines de masquage pour la fabrication des circuits integres ou comme couche optiquement active pour le traitement optique de l'information. Les polymeres silicies offrent des potentialites interessantes. Nous avons etudie dans un premier temps un polysiloxane, le polyvinylsilsesquioxane, comme resine negative pour microlithographie x et electronique. Notre travail a porte sur l'amelioration de la synthese du materiau a partir des procedes existants. Le polymere obtenu a ete caracterise et sa cinetique de reticulation etudiee. Ses performances lithographiques (tres bonne sensibilite et contraste moyen) sont discutees. Dans un deuxieme temps nous avons etudie le polymethylphenylsilane pour ses proprietes de photoconduction. Une methode de synthese basee sur l'utilisation des ultrasons a ete mise en uvre. Le polymere obtenu a ete caracterise. On s'est attache a en preciser la structure microscopique. Ce polymere a fait l'objet de mesures de photoconductivite, a l'etat pur ou dope, ce qui a conduit a des valeurs de mobilite, de temps de vie et de rendement de photogeneration des porteurs. L'utilisation de ce polymere dans une valve optique est envisagee