Abstract FR:

Des photopiles p**(+)pn**(+) ont ete fabriquees par depot epitaxique d'une couche mince de si ultrapur sur un substrat sommairement purifie (umg) p**(+), puis formation de la couche n**(+), des contacts metalliques et de la couche antireflet par serigraphie. Mesures de la longueur de diffusion ln (methode lbic) et de la reponse spectrale des cellules