Abstract FR:

Le contenu de ce memoire porte sur la mise en oeuvre du recuit thermique rapide infrarouge au silicium. Apres un rappel de l'evolution des moyens de recuit en general, les aspects materiels de cette technique sont tout d'abord presentes. Les problemes de mesure et de controle de la temperature sont developpes: utilisation des thermocouples sous vide, influence de la convection, utilisation des pyrometres optiques a basse temperature. Deux exemples d'application sont ensuite abordes: le recuit post-implantation et l'oxydation rapide. Enfin, les utilisations futures possibles du recuit rapide sont discutees