Abstract FR:

Ce memoire porte sur l'etude de la reactivite electrochimique en milieux acide et chlorure de revetements d'aluminium oxyde et nitrure, les premiers etant obtenus par depot par pvd et par segregation et les seconds par implantation ionique d'azote dans des films de al avec differentes doses implantees. Nous avons focalise nos recherches sur les revetements d'al nitrure suite aux resultats partiellement contradictoires obtenus en litterature concernant les conditions de formation de aln par implantation ionique d'azote. Tout d'abord, nous avons realise une etude structurale par diffraction par rayons x et par microscopie electronique par transmission a haute resolution des films de al implantes afin de suivre leur etat microstructural en fonction de la dose implantee. En outre, cette etude a permis de preciser des sujets controverses comme l'existence d'une solution solide cubique alnx ainsi que de proposer un mecanisme de croissance de aln hcp. Enfin, nous avons etabli une correlation entre les transformations structurale et topographique qu'ont subis les films de al suite a l'implantation ionique d'azote, et leur cinetiques de dissolution ainsi que leur resistance a la corrosion par piqures. Ainsi, la nature monophasee (presence de alnx aux cotes de al) des revetements d'al implantes a faible dose d'azote et la faible rugosite de leur surface sont a l'origine de leur meilleure reactivite dans les deux milieux acide et chlorure. Par ailleurs, la nature polyphasee (presence de alncfc ou hcp aux cotes de al et alnx) des revetements implantes a forte dose ainsi que la rugosite importante de leur surface sont la cause principale de la deterioration de leur resistance a la corrosion dans les deux milieux