Abstract FR:

Dans le cadre de ce memoire nous avons etudie sur le plan theorique l'influence de la tension acceleratrice des electrons incidents sur les dimensions des traces obtenus. En s'appuyant sur des resultats obtenus anterieurement nous avons simule pour une methode de monte-carlo, les trajectoires des particules incidents. Nous avons pu ainsi localiser l'energie deposee par les electrons incidents les electrons retrodiffuses par le substrat et les electrons secondaires. L'ensemble des resultats montre l'interet theorique presente par l'emploi de tensions plus elevees (100 kev) que celles habituellement utilisees en microlithographie (20 a 50 kev). Afin de preciser les differents mecanismes intervenant dans la modification de la resine nous avons etudie a l'aide d'un analyseur de pertes d'energie des electrons l'evolution au cours de l'irradiation du spectre obtenu. Les performances obtenues sont illustrees par differentes gravures representant le trace de motifs realises dans une couche de pmma de 0,5 micron d'epaisseur, avec des lignes de 0,4 micron de large