Abstract FR:

Le but de cette these est l'etude de la pulverisation basse energie de la couche mince de magnesie mgo d'un panneau a plasma. Cette erosion est un des phenomenes majeurs qui influencent la duree de vie de l'ecran. Nous nous sommes interesses, tout d'abord, a la structure et au principe de fonctionnement d'un ecran plasma. La description des phenomenes physiques mis en jeu nous a permis de poser le probleme de l'interaction des particules de la decharge, en particulier les ions, avec les parois internes des cellules, en l'occurrence la magnesie. L'originalite et la difficulte de ce travail sont basees sur le fait que l'energie des ions du plasma est comprise entre quelques ev et quelques centaines d'ev. Aussi, pour tenter de comprendre et prevoir le vieillissement de mgo, nous avons du commencer par etudier les differentes theories de pulverisation d'un solide par des ions en insistant sur le cas basse energie. Ensuite, nous avons choisi d'utiliser le procede de pulverisation par faisceau d'ions pour definir la loi generale d'erosion de mgo. Nous avons, pour cela, realise un dispositif experimental et nous avons determine le taux de pulverisation par perte de masse. Nous avons ainsi caracterise une magnesie standard d'un panneau a plasma, elaboree par evaporation au canon a electrons. Les experiences ont ete menees sous faisceaux argon et xenon basse energie (50 ev a 400 ev). Nous avons montre l'influence sur le taux de pulverisation des parametres du faisceau d'ions (nature, energie), des caracteristiques de la couche de magnesie (densite, orientation cristallographique) et par consequent des parametres de depot (temperature, vitesse et pression). Enfin, nous avons compare la resistance a l'erosion d'echantillons issus d'autres techniques d'elaboration (pulverisation reactive, pyrolyse).