Abstract FR:

L'etude du comportement photochimique de films de poly(ether ether cetone), sous irradiation a grande longueur d'onde, a permis de mettre en evidence les mecanismes de degradation du polymere en l'absence comme en presence d'oxygene. La photolyse directe se traduit par l'intervention de differents processus photochimiques primaires impliquant les groupements benzophenone et diphenylether. Dans des conditions oxydantes, il y a oxydation des photoproduits de faible masse moleculaire mais egalement oxydation et coupure des cycles aromatiques. Les revetements photoprotecteurs d'oxyde de titane et d'oxyde de zinc, elabores par pulverisation cathodique magnetron en radiofrequence, presentent des proprietes (cristallinite, composition) qui varient en fonction des parametres de depot. Dans les conditions adoptees pour cette etude, les depots de tio 2 sont amorphes alors que ceux de zno sont cristallises sous la forme wurtzite. Pour caracteriser l'adherence, nous avons procede a deux types de tests. Le test de pelage a mis en evidence une rupture adhesive pour les depots de tio 2 et une rupture cohesive pour les depots de zno. L'energie de pelage des depots de zno est superieure a celle des depots de tio 2 pour toutes les conditions de pulverisation. Pour ameliorer l'adherence, des traitements plasma de la surface du polymere ont ete effectues. Ils augmentent l'energie de surface du peek. Les analyses xps montrent alors la presence d'une reticulation et d'une fonctionnalisation de la surface du peek. Le test de fragmentation revele que les traitements de surface ameliorent l'adherence des revetements de tio 2 mais qu'ils sont pratiquement sans effets sur les revetements de zno. L'etude de la photoprotection du peek montre que les depots de tio 2 ne protegent pas le polymere du rayonnement ultraviolet alors que les depots de zno sont tres efficaces. L'epaisseur du revetement est alors le parametre preponderant.