Abstract FR:

L'anodisation phosphorique de l'alliage d'aluminium 1050 a conduit a la formation d'une couche de conversion composee d'une couche barriere et d'une couche poreuse d'oxyde d'aluminium. Cette derniere est constituee de pores textures et orientes perpendiculairement a la surface dont le diametre moyen est de 30 nm. Les parois des pores sont constituees d'alumine amorphe. L'impregnation metallique de nickel qui s'effectue habituellement sous tension alternative est ici etudiee dans le cas particulier du courant pulse inverse. L'impregnation sous tension alternative a permis de mettre en evidence une tension seuil de 5 v a partir de laquelle le depot de nickel est possible. Et a aussi montre la necessite de la quantite de courant anodique lors du depot de nickel. L'impregnation metallique sous courant pulse inverse a permis de mettre en evidence le role de l'impulsion anodique lors du depot de nickel. Lorsque cette impulsion est faible, elle permet la decharge de la double couche et favorise le reapprovisionnement en ions metalliques a l'interface d'echange. Lorsqu'elle devient plus importante, en plus de decharger la double couche, elle entraine l'oxydation du nickel present dans la couche poreuse. Quel que soit le type d'impregnation, le depot de nickel se fait tout d'abord pres de l'interface oxyde/metal et progresse ensuite vers le haut du pore. Le nickel depose est sous forme metallique finement divisee. L'etude des proprietes optiques des couches de conversion impregnees a montre que les parametres optiques et 7 0 sont dependants de la quantite de nickel depose dans la couche d'oxyde. Une faible teneur en nickel depose permet d'obtenir des parametres optiques correspondant a un absorbeur selectif ( > 0,90 et 7 0 < 0,20). Cette teneur est differente suivant le type de depot, traduisant une difference morphologique (etat de division) entre le nickel depose sous tension alternative et celui depose sous courant pulse inverse.